Superior Two Step Approach to Completely Photoprotect Avobenzone with a Designed Organic Redox Pair
Year of publication: |
2009
|
---|---|
Authors: | Rudolph, T. ; Pan, J. ; Scheurich, R. ; Pfluecker, F. ; Graf, R. ; Epstein, H. |
Published in: |
SÖFW-Journal : internationales Journal für angewandte Wissenschaft ; Kosmetik, Haushalt, Spezialprodukte. - Augsburg : Verl. für Chemische Industrie, ISSN 0173-5500, ZDB-ID 11050676. - Vol. 135.2009, 9, p. 14-19
|
Saved in:
Saved in favorites
Similar items by person